GTS激光跟蹤儀USMN聯(lián)合組網(wǎng)應(yīng)用——精確到微米的大空間尺度測(cè)量1.背景:突破單站式測(cè)量精度的局限當(dāng)前,對(duì)于激光跟蹤儀的大尺寸測(cè)量應(yīng)用,普遍采用單臺(tái)作業(yè)或多站位轉(zhuǎn)站測(cè)量的模式。然而,單站式激光跟蹤儀的空間測(cè)量精度為15μm+6μm/m,隨...
機(jī)床激光干涉儀利用激光干涉原理進(jìn)行測(cè)量。它通過(guò)激光束的干涉來(lái)確定工件的形狀、尺寸和表面質(zhì)量等參數(shù)。激光束被分成兩束,一束直接照射在被測(cè)工件上,另一束則通過(guò)反射鏡后再與被測(cè)工件相交。這兩束激光束在相交的地方產(chǎn)生干涉現(xiàn)象,根據(jù)干涉條紋的變化來(lái)獲...
在半導(dǎo)體行業(yè)中,Bump、RDL、TSV、Wafer合稱先進(jìn)封裝的四要素,其中Bump起著界面互聯(lián)和應(yīng)力緩沖的作用。Bump是一種金屬凸點(diǎn),從倒裝焊FlipChip出現(xiàn)就開始普遍應(yīng)用,Bump的形狀有多種,最常見的為球狀和柱狀,也有塊狀等其...
隨著超精密加工技術(shù)的不斷進(jìn)步,各種微納結(jié)構(gòu)元件廣泛應(yīng)用于超材料、微電子、航空航天、環(huán)境能源、生物技術(shù)等領(lǐng)域。其中超精密3D顯微測(cè)量技術(shù)是提升微納制造技術(shù)發(fā)展水平的關(guān)鍵,中圖儀器自主研發(fā)的白光干涉掃描和共聚焦3D顯微形貌檢測(cè)技術(shù),廣泛應(yīng)用于涉...
光學(xué)3D表面輪廓儀是基于白光干涉技術(shù),結(jié)合精密Z向掃描模塊、3D建模算法等快速、準(zhǔn)確測(cè)量物體表面的形狀和輪廓的檢測(cè)儀器。它利用光學(xué)投射原理,通過(guò)光學(xué)傳感器對(duì)物體表面進(jìn)行掃描,并根據(jù)反射光的信息來(lái)重建物體的三維模型。這種測(cè)量方式具有非接觸性、...
白光干涉儀以白光干涉為原理,廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)等領(lǐng)域,對(duì)各種產(chǎn)品、部件和材料表面的平面度、粗糙度、波紋度、面形輪廓、表面缺陷、孔隙間隙、臺(tái)階高度、彎曲變形情況、磨損情況、腐蝕情況、加工情況等表面形貌特征進(jìn)行測(cè)量和分析,是一種常見的光學(xué)輪廓測(cè)...
現(xiàn)代工業(yè)領(lǐng)域中,激光跟蹤儀和三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)都是常用的測(cè)量和定位的檢測(cè)設(shè)備,在工業(yè)制造、制造質(zhì)量控制、工程測(cè)量等領(lǐng)域中都發(fā)揮著重要作用。但在產(chǎn)品功能、測(cè)量范圍以及使用性能特點(diǎn)上,激光跟蹤儀與三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)還是有些不同。一、產(chǎn)品功能激光跟蹤儀基于激...
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